zurück Home Si, Silicium
allgemeines dunkelgraues Halbmetall mit bläulichem Farbton Hauptbestandteil der Erdkruste: 25,8 %
atomare Eigenschaften
Ordnungszahl14
Atommasse28,085
Atomradiusberechnet111
Kovalent111
Van-der-Waals210
Austrittsarbeit 2,59 eV
Ionisierungsenergie1. 786,5 kJ/mol
2. 1577,1 kJ/mol
3. 3231,6 kJ/mol
4. 4355,5 kJ/mol
physikalische Eigenschaften
Dichte 2,336 g/cm3
Mohshärte 6,5
Kristallstruktur Diamantstruktur
diamagnetisch Χm = -4,1 · 10-5
Schmelzpunkt 1410 °C
Siedepunkt 3260 °C
Molares Volumen 12,06 · cm3  / mol
Verdampfungswärme 383 kJ/mol
Schmelzwärme 50,2 kJ/mol
Elektrische Leitfähigkeit 1 * 103 A/(V · m)
Wärmeleitfähigkeit 150 W/(m · K)
Spezifische Wärmekapazität 703 J/(kg · K)
Schallgeschwindigkeit2200 m/s
chemische Eigenschaften
Oxidationszahlen-4, +4
Elektronegativität1,9
Elektronenkonfiguration [Ne] 3s2 3p2
Periodensystem Gruppe14 , Periode 3, Block  p
Isotope
Isotop Anteil Halbwertszeit Zerfallsart Energie Zerfallsprodukt
26Si -2,234 s Elektroneneinfang 5,066 MeV 26Al
27Si -4,16 s Elektroneneinfang 4,812 MeV 27Al
28Si92,23%stabil     
29Si4,67%stabil     
30Si3,1%stabil     
31Si -157,3 minβ- 1,492 MeV 31P
32Si -276 aβ- 0,224 MeV 32P
33Si -6,18 sβ- 5,845 MeV 33P
34Si -2,77 sβ- 4,601 MeV 34P
anorganische Si - Verbindungen
SiO2 Siliziumoxid
Si3N4 Siliciumnitrid schwach beigefarbener Feststoff Dichte 3,44 g/ccm
Sublimationspunkt 1900 °C nahezu unlöslich in Wasser drei Modifikationen: α: trigonal ,β: hexagonal ,γ: kubisch Nichtoxid-Keramik: erhöhte Bruchzähigkeit im Vergleich zu Siliciumcarbid und Borcarbid
Verwendung
  • thermoschockbeanspruchte Bauteile
  • Wendeschneidplatte für Eisengusswerkstoffe
  • Handhabung von Aluminiumschmelzen
  • für Einsatztemperaturen bis 1300 °C geeignet.
  • Hybridlager (Wälzkörper aus Si3N4)
  • Vollkeramiklager (Wälzkörper und Laufringe aus Si3N4)
  • Messspitzen (Cantilever),  bei Rasterkraftmikroskopen
  • Halbleitertechnik: Isolations- oder Passivierungsmaterial
  • Maskierungs- und Stopmaterial: Ätzmittel  heiße 85% Phosphorsäure
  • Photovoltaik: Antireflex- und Passivierungsschicht
kubischen Siliziumnitrid hochfester Glasersatz Herstellung bisher experimentell: 156.000 bar, 1800°C
SiC Siliziumcarbid Dichte 3,21 g/qcm Zersetzung ab 2300 °C unlöslich in Wasser Härte von 9,6 Mohs, 2600 Vickers, Knoop Wärmeleitfähigkeit: reines SiC 350 W/(m·K), technisches SiC 100–140 W/(m·K) Halbleiter-Eigenschaften: Bandlücke 2,39 eV bis 3,33 eV
organische Si-Verbindungen Kieselsäureester: TEOS Dimeticon, Polydimethylsiloxan, α-(Trimethylsilyl)-ω-methylpoly[oxy(dimethylsilylen)]
Minerale
Wollastonit Tafelspat Ca3[Si3O9] Kristallsystem: triklinMohshärte 4,5 bis 5Dichte (g/cm3) 2,8 bis 2,9 Brechungsindex nα = 1,616 bis 1,640 nβ = 1,628 bis 1,650 nγ = 1,631 bis 1,653 Schmelzpunkt 1540 °C Unlöslich in Wasser Gut löslich in Salzsäure
Verwendung Glas: Gemische mit SiO2 als Hauptbestandteil
AKR Alkali-Kieselsäure-Reaktion, Betonkrebs Reaktion zwischen Alkalien des Zementsteins im Beton und der Gesteinskörnung mit alkalilöslicher Kieselsäure. Ca(OH)2 + SiO2 -> Ca(OH)2 • SiO2

Teil von

Periodensystem chemische Elemente Anorganische Chemie

Impressum                            Zuletzt geändert am 22.11.2015 19:48